Xi'an  Eco  Industriale  Corp.

Obiettivo di sputtering di tantalio

Jun 01, 2018

Materiale: tantalio

Simbolo atomico: Ta

Numero atomico: 73

Punto di fusione: 3017 ° C (punto di ebollizione 5458 ° C)

Densità: 16,69 g / cc

Standard: ASTM B708 RO5200


Applicazione:

Industria degli strumenti elettronici Industria siderurgica Industria chimica



Tantalum sputtering target.jpg


Tantalum target.jpg

Forniamo prodotti in tantalio e leghe di tantalibri, tra cui lega Ta / W, lega Ta / Nb sotto forma di filo, barre, barre, piastre, fogli, lamine, dischi, tubi, bulloni, dadi, barche, crogioli, pezzi lavorati e presto.


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