Molibdeno Target

Descrizione:

Sputtering è una tecnologia avanzata per la preparazione di materiali a film sottile. Utilizza ioni generati da sorgenti ioniche per accelerare l'accumulo di correnti ioniche ad alta velocità nel vuoto, bombarda la superficie solida e scambia l'energia cinetica tra gli ioni e gli atomi sulla superficie solida, così che gli atomi sulla superficie solida lasciano puntare e depositare sulla superficie del substrato, formando così film nano o micron. Il solido che è stato bombardato era la materia prima dello sputtering a film sottile, chiamato target di polverizzazione. L'obiettivo di puttering è un nuovo tipo di prodotto applicato a Physical Vapor Deposition (PVD).

1. Nome del prodotto: Molibdeno Target

2.Metaril: Mo

3.Purity: 99,9%

4. Targa Target: Peso: ≤200 kg / pc, Lunghezza: ≤Φ165mmΧ1000mm

L'applicazione del bersaglio di molibdeno

1, display a schermo piatto

2, Industria del vetro (comprende vetro architettonico, vetro per auto, vetro per pellicole ottiche)

3, celle solari

4, ingegneria di superficie

5, supporti di registrazione

6, Microelectronics

7, luci dell'automobile e rivestimento decorativo, ecc.

Gli obiettivi di polverizzazione del molibdeno che possiamo fornire sono i seguenti

Servizio di imballaggio: il prodotto è circondato da un cuscino di gommapiuma e l'imballaggio esterno è imballato in casse di legno. Supportiamo imballaggi professionali per l'esportazione

Servizio di consegna: in base alle esigenze del cliente. Di solito trasportiamo tramite UPS, DHL ecc.

Esposizione del prodotto:

Informazioni sui contatti:

E-mail: mail@refrachina.com

Indirizzo: Suite A2202-03, Qujiang Exhibition International Building, Yanzhan Road, Xi'an,

710061, Cina

Telefono: 86-29-85325399

Fax: 029-85325610

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