Capisci Supttering Target
Principali requisiti prestazionali del materiale Supttering Target:
Purezza
La purezza è uno dei principali indicatori di prestazione del materiale Supttering Target, poiché la purezza del materiale target ha una grande influenza sulle prestazioni del film.Tuttavia, nelle applicazioni pratiche, i requisiti di purezza dei materiali target sono diversi.
Contenuto di impurità
Le impurità nei solidi target e l'ossigeno e l'acqua negli stomi sono le principali fonti di inquinamento dei film sottili depositati. I target per scopi diversi hanno requisiti diversi per contenuti di impurità diversi. Ad esempio, gli obiettivi di alluminio puro e lega di alluminio utilizzati nell'industria dei semiconduttori hanno requisiti speciali per il contenuto di metalli alcalini ed elementi radioattivi.
Densità
Al fine di ridurre la porosità nel solido del bersaglio e migliorare le prestazioni del film sputtered, di solito è necessario che il bersaglio abbia un'alta densità. La densità target non influenza solo la velocità di sputtering, ma influenza anche le proprietà elettriche e ottiche dei film. Maggiore è la densità target, migliori sono le proprietà dei film. Inoltre, aumentare la densità e la forza del bersaglio può rendere il bersaglio più resistente allo stress termico nel processo di sputtering. La densità è anche uno degli indicatori chiave di prestazione dei materiali target.
Distribuzione granulometrica e granulometrica
Di solito, il materiale di destinazione è policristallino e la dimensione del grano può variare da micron a millimetro. Per lo stesso bersaglio, la velocità di sputtering del bersaglio con grana fine è più veloce di quella del bersaglio con grana grossa e la distribuzione dello spessore del film depositato dal bersaglio con una piccola differenza di dimensione del grano (distribuzione uniforme) è più uniforme.
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