Principali requisiti prestazionali degli obiettivi di sputtering
Purezza di bersagli sputtering
La purezza è uno dei principali indici prestazionali dell'obiettivo, perché la purezza del materiale target ha una grande influenza sulle prestazioni del film. Tuttavia, nelle applicazioni pratiche, anche i requisiti di purezza dei materiali target sono diversi.
Contenuto di impurità di bersagli sputtering
Le impurità nel solido e l'ossigeno e il vapore acqueo nei pori sono le principali fonti dei film depositati. Obiettivi diversi hanno requisiti diversi per i diversi contenuti di impurità. Ad esempio, gli obiettivi di alluminio puro e lega di alluminio utilizzati nell'industria dei semiconduttori hanno requisiti speciali per il contenuto di metalli alcalini e di elementi radioattivi.
Densità di bersagli sputtering
Al fine di ridurre la porosità nel solido del bersaglio e migliorare le prestazioni del film spruzzato, di solito è richiesto che il bersaglio abbia un'alta densità. La densità del bersaglio non influisce solo sulla velocità dello sputtering, ma influenza anche le proprietà elettriche e ottiche dei film. Maggiore è la densità target, migliore è la performance del film. Inoltre, l'aumento della densità e della forza del bersaglio consentirà al bersaglio di resistere meglio allo stress termico durante lo sputtering. La densità è anche uno dei principali indicatori di performance degli obiettivi.
Distribuzione granulometria e granulometria degli obiettivi di polverizzazione
Di solito, l'obiettivo è la struttura policristallina e la dimensione del grano può essere da micron a millimetro. Per lo stesso obiettivo, il tasso di polverizzazione del bersaglio a grana fine è più veloce di quello del bersaglio con grana grossa e la distribuzione dello spessore del film depositato dal bersaglio con una differenza di grana piccola (distribuzione uniforme) è più uniforme.
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